<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Кераміка on UV Curing Tube</title>
		<link>http://uv-curing-tube.com/uk/tags/%D0%BA%D0%B5%D1%80%D0%B0%D0%BC%D1%96%D0%BA%D0%B0/</link>
		<description>Recent content in Кераміка on UV Curing Tube</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>uk</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Tue, 30 Jun 2026 00:09:10 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-curing-tube.com/uk/tags/%D0%BA%D0%B5%D1%80%D0%B0%D0%BC%D1%96%D0%BA%D0%B0/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Лампа з галієм для друку на кераміці у УФ діапазоні</title>
				<link>http://uv-curing-tube.com/uk/posts/gallium-uv-lamp-for-ceramic-print/</link>
				<pubDate>Tue, 30 Jun 2026 00:09:10 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-curing-tube.com/uk/posts/gallium-uv-lamp-for-ceramic-print/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-curing-tube.com/images/160959689126cad3dde3475545820c11.png&#34; alt=&#34;Лампа з галієм для друку на кераміці у УФ діапазоні&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На лініях з виробництва керамічної плитки пристрій для висихання є ключовим елементом – саме тут зустрічаються показники продуктивності та якості продукту. Якщо спектральний випромінювання не збігається з характеристиками фотоініціатора, відбувається неповне зв’язування компонентів матеріалу. Фарба залишається липкою, пігменти „витікають“ з поверхні, а верхній шар не проходить тест на адгезію. Ми створили ультрафіолетову лампу на основі галію спеціально для використання в процесі друку на кераміці, щоб усунути ці проблеми.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Що є важливим у конструкції лампи&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Лампа працює на основі ртутного пару, доповненого галієм; це дозволяє концентрувати випромінювання при довжині хвилі 395 нм. Ця довжина хвилі дозволяє більш ефективно впливати на складові керамічних фарб, ніж довжина хвилі 365 нм. Таким чином досягається більш повне висихання матеріалу без перевисихання поверхні. Максимальна інтенсивність випромінювання становить 2,000 мВт/см² на поверхні матеріалу; загальна енергія, яка надходить на поверхню, становить понад 800 мДж/см² при типовій відстані 300 мм.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
